高科技廠務, 4/e

顏登通

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商品描述

這些年來光電、生物科技迅速掘起加速更新,半導體也推陳出新挑戰極限,而這些改變則是需要嚴格的生產廠房及研發環境,但在目前市面是並無以有系統介紹建立高科技廠房的專業案頭書,有鑑於此,作者將二十多年來在高科技產業的執行及顧問經驗,將所有的廠務系統作全面有秩序的整理編寫。本書共分為十三大章,內容涵蓋了潔淨室和廠務之八大系統,除此之外有風險管理和建廠工程之規劃內容和執行原則介紹,本書的內容偏重實務之應用面和執行面。本書適合科大電機系、能源與冷凍空調工程系「半導體廠務」、「半導體與光電廠務設施」課程使用。

目錄大綱

第1章 潔淨室與空調

1-1 前 言

1-2 潔淨室定義與發展史

1-3 潔淨室標準與規格

1-4 潔淨室適用範圍

1-5 潔淨室分類

1-6 潔淨空氣流分析

1-7 不同障礙物對氣流之影響

1-8 潔淨室設計規劃

1-9 潔淨室震動、靜電、噪音、電磁干擾之防制

1-10 潔淨室空調設計

1-11 潔淨室建造、組裝材及程序

1-12 潔淨室測試與驗收

1-13 潔淨室運轉與維護管理

1-14 潔淨室自動化系統

1-15 潔淨室建造成本分析



第2章 超純水處理

2-1 前 言

2-1-1 純水之功能

2-1-2 水中之污染物

2-1-3 水中不純物之測定分析

2-2 超純水之製造

2-2-1 超純水之規範

2-2-2 純水製造類別分析

2-2-3 純水製造用膜材質比較

2-3 高科技產業用超純水

2-3-1 高科技廠純水製造流程

2-3-2 各製程模組件功能分析

2-3-3 超純水管路設計

2-3-4 超純水運轉、故障排除與品質監控



第3章 中央式化學品供應系統

3-1 前 言

3-2 化學品供應需求要素

3-3 化學品供應種類

3-4 化學品供應系統之架構與作用原理

3-5 化學品配管與安全考量

3-6 結 論



第4章 中央式氣體供應系統

4-1 前 言

4-2 光電廠和半導體廠所使用之氣體

4-3 氣體的規範

4-4 中央式氣體供應架構

4-5 供氣系統的安全技術

4-6 氣體的供應輸送

4-7 氣體供應的規劃與設計



第5章 廢水處理及回收

5-1 前 言

5-2  排放標準

5-3 廢水種類

5-4 廢水處理系統介紹

5-5 廢水處理之規劃設計運轉



第6章 電力供應與中央監控

6-1 前 言

6-2 電力供應系統組成

6-3 受電供電設備

6-4 建廠電力系統規劃

6-5 電力供應系統設備運轉管理

6-6 廠務中央監控系統



第7章 廠務設施架構

7-1 前 言

7-2 冰水及冷凝冷卻水

7-3 熱水、蒸氣與柴油、瓦斯供應系統

7-4 製程冷卻水

7-5 乾燥壓縮空氣/呼吸用空氣

7-6 製程真空和清潔用真空系統



第8章 環境保護與工業安全維護

8-1 前 言

8-2 環保與工安之功能目的

8-3 半導體與光電廠廢氣處理規劃

8-4 廢氣種類與排放標準

8-5 廢氣處理方式

8-6 廢棄物處理與減廢

8-7 有關環保相關申請文件及流程

8-8 工業安全與衛生維護



第9章 管路設計及空間佈置規劃

9-1 前 言

9-2 管路材質選用

9-3 氣體管路配管

9-4 管路標示

9-5 管路設計規劃

9-6 管路之空間佈置



第10章 建廠設計評估及施工監造管理

10-1 前 言

10-2 建廠工程規劃

10-3 建廠工程設計及施工執行流程



第11章 風險評估管理計劃

11-1 前 言

11-2 風險管理四要素

11-3 風險評估程序

11-4 損害防阻執行

11-5 災害復原計畫



第12章 高科技廠建廠及運轉成本分析

12-1 前 言

12-2 建廠時程

12-3 建廠成本分析

12-4 廠務系統用量分析



第13章 結 語

附   錄 簡稱字彙